Сравнительная оценка требований, предъявляемых к помещениям размещения высокоточных производств

Рассмотрены основополагающие принципы проектирования и критерии размещения высокоточного оборудования, предназначенного для выпуска микроэлектронных компонентов и исследования структур микронного и субмикронного уровней. Основной аспект статьи сделан на защите от вибрации естественного и техногенного происхождения, присутствующей практически в любом месте строительства. Основная цель минимизации вибраций заключается в том, чтобы не допускать возникновения колебаний, способных искажать измерительные данные и нарушать работу высокоточного оборудования, такого как электронные микроскопы, литографические установки и системы нанометрового контроля. Современным требованием по вибрации является предельно допустимый уровень виброскорости от 3 до 0,5 мкм/с или меньше в зависимости от оборудования и целей исследований. Проанализированы требования отечественных и зарубежных нормативных и рекомендательных документов к уровням вибрации основания в местах установки высокоточного оборудования. Приведены результаты измерений и оценки уровней вибрации на типовом объекте согласно указанным требованиям.

В.А. СМИРНОВ, канд. техн. наук (Адрес электронной почты защищен от спам-ботов. Для просмотра адреса в вашем браузере должен быть включен Javascript.)

Национальный исследовательский Московский государственный строительный университет (129337, г. Москва, Ярославское ш., 26)

1. Зеленский А.А., Морозкин М.С., Грибков А.А. Обзор полупроводниковой промышленности в мире и России: производство и оборудование // Известия вузов. Электроника. 2021. № 6. С. 468–480. https://doi.org/10.24151/1561-5405-2021-26-6-468-480
1. Zelensky A.A., Morozkin M.S., Gribkov A.A. Overview of the semiconductor industry in the world and Russia: production and equipment. Izvestiya vuzov. Electronics. 2021. No. 6, pp. 468–480. (In Russian). https://doi.org/10.24151/1561-5405-2021-26-6-468-480
2. Мондрус В.Л., Смирнов В.А. Виброзащита высокоточного оборудования от низкочастотных колебаний // ACADEMIA. Архитектура и строительство. 2011. № 1. С. 109–111. EDN: OOEURP
2. Mondrus V.L., Smirnov V.A. Vibration protection of high-precision equipment from low-frequency vibrations. ACADEMIA. Architecture and construction. 2011. No. 1, pp. 109–111. (In Russian). EDN: OOEURP
3. Смирнов В.А. Методы размещения высокоточного оборудования в существующих зданиях // Жилищное строительство. 2012. № 6. С. 76–77. (In Russian). EDN: PEMTJP
3. Smirnov V.A. Methods of placing high-precision equipment in existing buildings. Zhilishchnoe Stroitel’stvo [Housing Construction]. 2012. No. 6, pp. 76–77. EDN: PEMTJP
4. Смирнов В.А., Савулиди М.Ю., Смоляков М.Ю. Оценка воздействия вибрации на здания и сооружения в зоне влияния железной дороги // Жилищное строительство. 2022. № 11. С. 36–40. https://doi.org/10.31659/0044-4472-2022-11-36-40
4. Smirnov V.A., Savulidi M.Yu., Smolyakov M.Yu. Assessment of the impact of vibration on buildings and structures in the zone of influence of the railway. Zhilishchnoe Stroitel’stvo [Housing Construction]. 2022. No. 11, pp. 36–40. (In Russian). https://doi.org/10.31659/0044-4472-2022-11-36-40
5. Soueid A., Amick H., Zsirai T. Addressing the environmental challenges of the NIST Advanced Measurement Laboratory. Proceedings of SPIE – The International Society for Optical Engineering. 2005. 5933. https://doi.org/10.1117/12.618915
6. Amick H., Gendreau M., Wongprasert N. Centile spectra, measurement times, and statistics of ground vibration. Chapter in “Environmental Vibrations: Prediction, Monitoring, Mitigation and Evaluation”. CRC Press. 2005. 6 p. https://doi.org/10.1201/9781003209379
7. Amick H., Gendreau M. Construction vibrations and their im-pact on vibration – sensitive facilities. ASCE Construction Congress 6 Orlando. Florida, February 22, 2000. 10 p.
8. Michael Gendreau and Mei Wu. Environmental Noise Control for Semiconductor Manufacturing Facilities. Inter-Noise 99. The 1999 Congress and Exposition on Noise Control Engineering December 8, 1999. Fort Lauderdale, Florida.
9. Amick H., Gendreau M., Gordon C. Facility Vibration Issues for Nanotechnology Research. Presented at the Symposium on Nano De-vice Technology 2002. National Chiao-Tung University, Hsinchu, Tai-wan.
10. Generic Vibration Criteria for Vibration-Sensitive Equipment. Proceedings of International Society for Optical Engineering (SPIE) Conference on Current Developments in Vibration Control for Optomechanical Systems. Denver. CO. July 1999.
11. Hal Amick, Ahmad Bayat. Meeting The Vibration Challenges Of Next-Generation Photolithography Tools. ESTECH 2001, 47th Annual Technical EST PMeeting. Ihoenix, Arizona, April 24, 2001. 10 p.